(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211151277.5 (22)申请日 2022.09.21 (71)申请人 申集半导体科技 (徐州) 有限公司 地址 221000 江苏省徐州市邳州市邳州经 济开发区辽河路以北华山路以西半导 体材料和设备产业园C2号厂房 (72)发明人 刘超 李中云  (74)专利代理 机构 北京和联顺知识产权代理有 限公司 1 1621 专利代理师 刘洪彪 (51)Int.Cl. B24B 9/06(2006.01) B24B 41/00(2006.01) B24B 41/04(2006.01) B24B 41/06(2012.01)B24B 47/12(2006.01) (54)发明名称 一种晶圆边 缘抛光装置及其抛光方法 (57)摘要 本发明涉及一种晶圆边缘抛光装置及其抛 光方法, 包括用于对整体各部件进行承载与定位 的基座, 并进一步包括传输组件、 抛光组件和出 料组件三个部分。 传输组件包括一端与基座相 连, 用于对工件进行传送的上料机构; 架设于上 料机构一侧的取料机构。 抛光组件包括一端与基 座相连, 用于对抛光组件整体定位的支柱; 与支 柱相连, 用于进行抛光作业的抛光机构。 出料组 件包括一端与基座相连, 用于对工件进行承接的 承接机构; 与承接机构相连的出料机构。 传输组 件、 抛光组件和出料组件均为多个, 可同时进行 多向上料与出料, 有效提升抛光作业的整体效 率。 取料机构设有风机, 可对抛光过程中的抛光 飞尘进行吹送引向, 避免飞尘对晶圆表面造成损 伤与污染。 权利要求书2页 说明书7页 附图4页 CN 115365935 A 2022.11.22 CN 115365935 A 1.一种晶圆边缘抛光装置, 包括用于对整体各部件进行承载与定位的基座, 其特征是 还包括: 传输组件, 包括一端与所述基座相连, 用于对工件进行传送的上料机构; 架设于所述上 料机构一侧的取 料机构; 抛光组件, 包括一端与所述基座相连, 用于对所述抛光组件整体定位的支柱; 与所述支 柱相连, 用于进行 抛光作业的抛光机构; 出料组件, 包括一端与所述基座相连, 用于对工件进行承接的承接机构; 与所述承接机 构相连的出 料机构; 所述传输组件、 抛光组件和所述出 料组件均为多个, 可进行多向同时运作; 所述取料机构设有风机, 可对抛光过程中的飞屑进行引向。 2.根据权利要求1所述的一种晶圆边 缘抛光装置, 其特 征在于, 所述上 料机构包括: 定位柱, 置于所述基座的一侧, 并与所述基座存在预定的距离, 用于提供预定的支撑 力; 传送板, 与所述定位柱相连, 且表面覆盖有传送履带, 用于对所要进行抛光的晶圆进行 传送; 接料平台, 置于所述传送板传送方向末端处, 用于对经由所述传送板传送的晶圆进行 接收。 3.根据权利要求2所述的一种晶圆边 缘抛光装置, 其特 征在于, 所述取 料机构包括: 罩壳, 置于所述基座作业面表面, 中空且具有预定的收容性, 用于对所述取料机构的各 部件进行承载和限位; 第一伸缩杆, 置于所述罩壳中空腔室上壁面处, 可沿与所述罩壳上壁垂直方向进行往 复伸缩运动; 第一吸盘, 与所述伸缩杆作业方向下端相连, 用于对晶圆进行吸附; 所述第一吸盘与所述接料平台作业位置相对, 可对经由所述接料平台作业面表面的晶 圆进行吸附; 所述罩壳中空腔室内壁 面设有风机, 用于对抛光过程中所产生的飞尘进行吹风引向。 4.根据权利要求1所述的一种晶圆边 缘抛光装置, 其特 征在于, 所述抛光机构包括: 固定柱, 一端与所述基座相连, 用于对所述抛光机构进行整体的定位与各部件的承载; 旋转电机, 与所述固定柱的另一端相连, 用于为所述抛光机构提供 预定的驱动力; 抛光柱, 通过滚轴轴承与所述旋转电机相连, 可在所述旋转电机驱动下进行全方位转 动。 5.根据权利要求 4所述的一种晶圆边 缘抛光装置, 其特 征在于: 所述抛光组件为多个, 并对称式分布; 多个所述抛光柱之间通过抛光履带相互连通; 所 述抛光柱为 “工”字型, 所述抛光履带 可跟随所述抛光柱的转动而转动。 6.根据权利要求1所述的一种晶圆边 缘抛光装置, 其特 征在于, 所述承接 机构包括: 承接柱, 一端与所述基座相连, 用于所述承接 机构的整体定位与各部件 承载; 承接板, 与所述承接柱的另一端相连, 且成 “凹”字形, 用于对经由所述抛光组件处理后 的工件进行承接; 推板, 置于所述承接板一侧, 并与所述承接板存在预定的距离, 用于对所述承接板所承权 利 要 求 书 1/2 页 2 CN 115365935 A 2接的晶圆进行推送。 7.根据权利要求1所述的一种晶圆边 缘抛光装置, 其特 征在于, 所述出 料机构包括: 支撑柱, 一端与所述基座相连, 用于所述出料机构的整体定位与各部件之间的相互连 通; 出料板, 与所述支撑柱的另一端相连, 用于对经由所述承接机构承接后的晶圆进行出 料传送; 回收台, 与所述出料板相连, 具有预定的收容性, 用于对抛光处理完成后的晶圆进行回 收处理。 8.根据权利要求3所述的一种晶圆边 缘抛光装置, 其特 征在于: 与所述取料机构相对应位置处设有辅料机构, 所述辅料机构包括滑动组、 第二伸缩杆 和第二吸盘; 所述滑动组置于所述基座作业面表 面, 可沿所述基座作业面表进 行滑动调节; 所述第二伸缩杆与所述滑动组相连, 可跟随所述滑动组的滑动而移动; 所述第二吸盘与所 述第二伸缩杆相连, 用于与所述第一吸盘相互配合, 对晶圆进行吸附。 9.根据权利要求8所述的一种晶圆边 缘抛光装置的抛光方法, 其特 征在于: 所述第一伸缩杆与所述罩壳滑动连接, 可沿所述罩壳作业面表面进行滑动调节; 所述 第一吸盘、 第二吸盘均通过轴承与所述第一伸缩杆、 第二伸缩杆对应相连, 使得所述第一吸 盘可绕与所述第一伸缩杆的连接点进 行转动, 所述第二吸盘可绕与所述第二伸缩杆的连接 点进行转动。 10.根据权利要求1至9中任一项所述的一种晶圆边缘抛光装置的抛光方法, 其特征在 于包括以下步骤: S1、 将所要进行抛光的晶圆放置于传送板作业面表面进行传送, 传送至接料平台处停 止传送; S2、 第一伸缩杆沿罩壳作业面表面向靠近接料平台的方向滑动, 移动至与接料平台相 对应位置处停止滑动; 伸缩杆向靠近晶圆的方向伸展, 而后第一吸盘将晶圆吸附住, 完成取 料作业; S3、 第一伸缩杆再次沿罩壳作业面表面滑动, 滑动至与第二伸缩杆相对应位置处停止 滑动; 第二伸缩杆向靠近第一伸缩杆的方向进行伸展, 而后第二吸盘配合第一吸盘将晶圆 吸附住; S4、 而后第一伸缩杆与第二伸缩杆均向抛光组件滑动, 当滑动至与抛光组件相对应位 置处停止滑动, 而后第一吸盘与第二吸盘转动带动晶圆转动, 完成对晶圆边 缘的抛光作业; S5、 完成抛光作业后, 第一伸缩杆与第二伸缩杆向靠近出料组件的方向滑动, 而后第一 吸盘松开, 第二吸盘将晶圆继续向靠近出料板的方向滑动, 并通过推板将晶圆推送至出料 板作业面表面, 并最终通过 出料板传送至回收台进行回收; S6、 以此类 推, 依次重复S1至S5 工作, 直到系统停止 工作。权 利 要 求 书 2/2 页 3 CN 115365935 A 3

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