(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123286 569.3 (22)申请日 2021.12.24 (73)专利权人 阳光硅谷电子科技有限公司 地址 065200 河北省廊坊市三河市燕郊开 发区迎宾北路西侧、 规划路南侧 (72)发明人 周为贞　李伟浩　侯雪岩　 (74)专利代理 机构 上海华诚知识产权代理有限 公司 313 00 专利代理师 刘煜 (51)Int.Cl. B08B 3/10(2006.01) B08B 13/00(2006.01) H01L 21/67(2006.01) (54)实用新型名称 一种硅片清洗系统 (57)摘要 本实用新型提供一种硅片清洗系统， 包括： 空气能设备和第一清洗槽， 空气能设备包括储水 箱和空气能热泵， 储水箱形成有容腔， 容腔至少 容纳从总管路输送的具有第一 温度的清洗液， 空 气能热泵的进水口连接到储水箱以接收来自储 水箱的清洗液并对清洗液加热， 空气能热泵的出 水口处设有第一出水管以向第一出水管输出具 有第二温度的清洗液， 第二温度大于第一温度； 第一清洗槽的进水口连接到第一出水管以接收 具有第二 温度的清洗液， 第一清洗槽内设置有第 一加热管以对第一清洗槽内的清洗液补充加热。 本实用新型实施例的硅片清洗系统通过设置空 气能热泵降低了清洗室内的温度， 又避免持续开 启第一加热管， 延长了第一加热管的使用寿命， 降低了用电能耗。 权利要求书1页 说明书6页 附图1页 CN 216779656 U 2022.06.21 CN 216779656 U 1.一种硅片清洗系统， 其特 征在于， 包括： 空气能设备， 所述空气能设备包括： 储水箱， 所述储水箱形成有容腔， 所述容腔至少容纳从总管路输送的具有第一温度的 清洗液； 空气能热泵， 所述空气能热泵的进水口连接到所述储水箱以接收来自所述储水箱的所 述清洗液并对所述清洗液加热， 所述空气能热泵的出水口处设有第一出水管以向所述第一 出水管输出具有第二温度的清洗液， 所述第二温度大于所述第一温度； 第一清洗槽， 所述第 一清洗槽的进水口连接到所述第 一出水管以接收具有所述第 二温 度的所述清洗液， 所述第一清洗槽内设置有第一加热管以对所述第一清洗槽内的清洗液补 充加热。 2.根据权利要求1所述的硅片清洗系统， 其特 征在于， 所述空气能设备还 包括： 水泵， 所述空气能热泵的进水口通过 所述水泵连接 到所述储水箱。 3.根据权利要求2所述的硅片清洗系统， 其特征在于， 所述空气能热泵的出水口处还设 有第二出水管， 所述第二出水管连接于所述储 水箱的进水口以将所述空气能热泵加热后的 所述清洗液回送至所述储水箱， 然后再次经 过空气能热泵 进行加热， 直至加热至第二温度。 4.根据权利要求3所述的硅片清洗系统， 其特 征在于， 还 包括： 第一温度传感器， 所述第 一温度传感器设于所述第 一清洗槽 内以监测所述第 一清洗槽 中清洗液的温度。 5.根据权利要求 4所述的硅片清洗系统， 其特 征在于， 还 包括： 控制器， 所述控制器与所述第一加热管和所述第一温度传感器连接， 基于所述第一温 度传感器的监测结果控制所述第一加热管 的开启/关闭， 以保证所述第一清洗槽中的清洗 液维持在第一预设温度， 所述第一预设温度大于所述第二温度。 6.根据权利要求5所述的硅片清洗系统， 其特 征在于， 还 包括： 第二清洗 槽， 位于所述第一清洗 槽的下游， 接收从所述第一清洗 槽溢出的所述清洗液。 7.根据权利要求6所述的硅片清洗系统， 其特 征在于， 还 包括： 第二加热 管， 设于所述第二清洗 槽内以对所述第二清洗 槽内的清洗液进行加热， 第二温度传感器， 设于所述第二清洗 槽内以监测所述第二清洗 槽中清洗液的温度， 所述第二加热管和所述第 二温度传感器与 所述控制器连接， 所述控制器根据 所述第二 温度传感的监测结果控制所述第二加热管 的开启/关闭， 以保证所述第二清洗槽中的清洗 液维持在第二预设温度。 8.根据权利要求6所述的硅片清洗系统， 其特征在于， 所述第 二清洗槽和所述总管路之 间设置有第一进 水管， 所述总管路通过所述第一进水管向所述第二清洗槽输送具有第一温 度的所述清洗液。 9.根据权利要求8所述的硅片清洗系统， 其特征在于， 所述第一清洗槽上还设有溢流 口， 所述第二清洗槽与所述溢流口之间设置有第二进水管， 所述第一清洗槽内的清洗液通 过所述第二进水 管溢流到所述第二清洗 槽。 10.根据权利要求8所述的硅片清洗系统， 其特征在于， 在所述第一进水管和所述第一 出水管上至少设置有调节阀和/或转子流 量计。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216779656 U 2一种硅片清洗系统 技术领域 [0001]本实用新型 涉及光伏技 术领域， 具体涉及一种硅片清洗系统。 背景技术 [0002]清洗机在清洗硅片过程中， 各清洗槽内水温需保持在50℃以上， 现有技术中， 通过 在清洗槽内安装加热管， 将电能转换为热能的方式， 为清洗硅片提供持续稳定的热水。 使用 加热管加热具有升温快的优点， 但是加热管用电能耗大， 使用寿命低， 并且由于清洗槽内的 水蒸气散发在清洗室内， 导 致空气湿度大、 温度高， 一 年三季需开启空调进行降温。 实用新型内容 [0003]有鉴于此， 本实用新型提供一种硅片清洗系统， 以解决现有的硅片清洗工艺能耗 高的问题。 [0004]为了实现上述目的， 本实用新型采用以下技 术方案： [0005]根据本实用新型实施例的硅片清洗系统， 包括： [0006]空气能设备， 所述空气能设备包括： [0007]储水箱， 所述储水箱形成有容腔， 所述容腔至少容纳从总管路输送的具有第一温 度的清洗液； [0008]空气能热泵， 所述空气能热泵的进水口连接到所述储水箱以接收来自所述储水箱 的所述清洗液并对所述清洗液加热， 所述空气能热泵的出水口处设有第一出水管以向所述 第一出水管输出具有第二温度的清洗液， 所述第二温度大于所述第一温度； [0009]第一清洗槽， 所述第一清洗槽的进水口连接到所述第一出水管以接收具有所述第 二温度的所述清洗液， 所述第一清洗槽内设置有第一加热管以对所述第一清洗槽内的清洗 液补充加热。 [0010]进一步地， 所述空气能设备还 包括： [0011]水泵， 所述空气能热泵的进水口通过 所述水泵连接 到所述储水箱。 [0012]进一步地， 所述空气能热泵的出水口处还设有第二出水管， 所述第二出水管连接 于所述储水箱的进水口以将所述空气能热泵加热后的所述清洗液回送至所述储水箱， 然后 再次经过空气能热泵 进行加热， 直至加热至第二温度。 [0013]进一步地， 本实用新型实施例的硅片清洗系统还可以包括： [0014]第一温度传感器， 所述第一温度传感器设于所述第一清洗槽内以监测所述第一清 洗槽中清洗液的温度。 [0015]进一步地， 本实用新型实施例的硅片清洗系统还可以包括： [0016]控制器， 所述控制器与所述第一加热管和所述第一温度传感器连接， 基于所述第 一温度传感器的监测结果控制所述第一加热管 的开启/关闭， 以保证所述第一清洗槽中的 清洗液维持在第一预设温度， 所述第一预设温度大于所述第二温度。 [0017]进一步地， 本实用新型实施例的硅片清洗系统还可以包括：说　明　书 1/6 页 3 CN 216779656 U 3