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(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 2021232790 02.3 (22)申请日 2021.12.24 (73)专利权人 达格测试设备 (苏州) 有限公司 地址 215151 江苏省苏州市高新区建林路 666号出口配套工业园7栋 (72)发明人 华徐浩 (74)专利代理 机构 广州博联知识产权代理有限 公司 44663 专利代理师 孙倩倩 (51)Int.Cl. B08B 7/00(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种等离 子清洗系统 (57)摘要 本实用新型提出了一种等离子清洗系统, 主 要包括: 壳体、 反应腔、 RF射频电源、 RF调谐网络、 真空泵和配电箱, 其中, 所述壳体包括: 上壳体、 下壳体和侧壳体, 所述反应腔设置于下壳体上端 面, 所述反应腔包括: 上腔体和下腔体, 在所述侧 壳体内设置有升降装置, 所述上腔体连接于升降 装置并可随升降装置升降, 所述反应腔内设置有 电极板组件, 所述电极板组件与RF射频电源、 RF 调谐网络之间电连接, 所述真空泵与反应腔之间 管道连接。 通过上述方式, 集 成化的设计, 占地空 间较小, 适合于与大的流水线对接, 实现在线等 离子清洗。 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 CN 216679376 U 2022.06.07 CN 216679376 U 1.一种等离子清洗系统, 其特征在于, 主要包括: 壳体、 反应腔、 RF射频电源、 RF调谐网 络、 真空泵和 配电箱, 其中, 所述壳体包括: 上壳体、 下壳体和侧壳体, 所述反应腔设置于下 壳体上端面, 所述反应腔包括: 上腔体和下腔体, 在所述侧壳体内设置有升降装置, 所述上 腔体连接于升降装置并可随升降装置升降, 所述反应腔 内设置有电极板组件, 所述电极板 组件与RF射频电源、 RF调谐网络之间电连接, 所述真空泵与反应腔之间管道连接 。 2.根据权利要求1所述的一种等离子清洗系统, 其特征在于, 所述上腔体包括: 反应腔 上盖、 第一电极板, 所述反应腔上盖与第一上极板之间形成第一密闭空间, 所述下腔体包 括: 反应腔下盖、 第二电极板, 所述反应腔下盖与第二电极板之间形成第二密闭空间, 所述 第一密闭空间与第二密闭空间内分别通入冷却液。 3.根据权利要求2所述的一种等离子清洗系统, 其特征在于, 所述上腔体与 下腔体之间 设置有密封装置 。 4.根据权利要求1所述的一种等离子清洗系统, 其特征在于, 所述真空泵与反应腔之间 通过真空阀和抽真空管道连接 。 5.根据权利要求4所述的一种等离子清洗系统, 其特征在于, 所述抽真空管道具有多个 均匀分散的管路分别连接至反应腔, 多个管路最 终汇集为一条管路 并通过真空阀与真空泵 连接。 6.根据权利要求1所述的一种等离子清洗系统, 其特征在于, 所述下壳体的至少一个侧 壁处设置有冷却口, 在所述冷却口内设置有风扇。 7.根据权利要求1所述的一种等离子清洗系统, 其特征在于, 还包括操作面板和开关, 所述开关、 真空泵、 升降装置、 RF视频电源分别与配电箱之间电连接 。权 利 要 求 书 1/1 页 2 CN 216679376 U 2一种等离 子清洗系统 技术领域 [0001]本实用新型 涉及等离 子清洗机领域, 尤其是 涉及一种等离 子清洗系统。 背景技术 [0002]等离子清洗主要是依靠等离子体中活性粒子 的“活化作用 ”达到去除物体表面污 渍的目的。 等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型, 均可进 行处理, 对金 属、 半导体、 氧化物和大多数高分子材料, 如聚丙烯、 聚脂、 聚酰亚胺、 聚氯乙烷、 环氧、 甚至 聚四氟乙烯等都能很好地处理, 并可实现整体和局部以及 复杂结构的清洗。 等离子清洗机 已经步入人们的视野, 它的应用领域之广是显而易见的, 主要包括: 汽车制造行业、 塑料橡 胶行业、 光电制造行业、 金属及涂装 行业、 化纤及纺织行业、 印刷及喷码行业等。 随着国家供 给改革及环保督察力度的加大, 各行业标准的不断提高, 对于这种无污染, 高可靠性等离子 清洗设备 的需求不断增多。 尤其是最近几年来5G和电动汽车的迅速发展, 造成全球芯片供 应短缺, 对等离 子清洗系统的要求越来越多。 [0003]目前消费电子、 5G、 新能源汽车等行业发展迅猛, 对半导体的需求不断增加, 倒逼 行业内各工序工艺的提升, 对等离子体清洗设备 的要求也越来越高, 促使等离子清洗设备 向着更高, 更快, 更强发展。 尤其是工业4.0的飞速发展, 对等离子清洗设备提出了更高的要 求, 要求具有更高的处 理效率, 更加智能化, 以及更好的处 理效果等特点。 实用新型内容 [0004]为解决上述问题, 本实用新型提出了一种等离 子清洗系统。 [0005]本实用新型的主要内容包括: 一种等离子清洗系统, 主要包括: 壳体、 反应腔、 RF射 频电源、 RF调谐网络、 真空泵和配电箱, 其中, 所述壳体包括: 上壳体、 下壳体和侧壳体, 所述 反应腔设置于下壳体上端面, 所述反应腔包括: 上腔 体和下腔体, 在所述侧壳体内设置有升 降装置, 所述上腔体连接于升降装置并可随升降装置升降, 所述反应腔 内设置有电极板组 件, 所述电极板组件与RF射频电源、 RF调谐网络之间电连接, 所述真空泵与反应腔之间管道 连接。 [0006]优选地, 所述上腔体包括: 反应腔上盖、 第一电极板, 所述反应腔上盖与第一上极 板之间形成第一密闭空间, 所述下腔体包括: 反应腔下盖、 第二电极板, 所述反应腔下盖与 第二电极板之间形成第二密闭空间, 所述第一密闭空间与第二密闭空间内分别通入冷却 液。 [0007]优选地, 所述上腔体与下腔体之间设置有密封装置 。 [0008]优选地, 所述真空泵与反应腔之间通过真空阀和抽真空管道连接 。 [0009]优选地, 所述抽真空管道具有多个均匀 分散的管路分别连接至反应腔, 多个管路 最终汇集 为一条管路并通过真空阀与真空泵连接 。 [0010]优选地, 所述下壳体 的至少一个侧壁处设置有冷却口, 在所述冷却口内设置有风 扇。说 明 书 1/3 页 3 CN 216679376 U 3
专利 一种等离子清洗系统
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